先说说一般的“冲印照片”的过程。
假设拍的是风景，胶片上会有曝光痕迹，先要在暗室里显影，让风景在胶片上显示出来。
然后在红光下通过放大机，把胶片上的风景投射到相纸上，让相纸曝光。再通过相纸的显影、定影、烘干得到最终的照片。
除了风景之外，“照片冲印”需要有胶片，有光源、放大机、相纸。
光刻机制作芯片的过程，基本和“冲印照片”一样。
“风景”就是设计好的集成电路图（IC），“胶片”就是一块石英板（光罩），用来记录集成电路图，“相纸”就是硅晶圆，“放大机”就相当于光刻机。
所不同的是，洗照片是放大，把小胶片放大到相纸上，光刻机是缩小，把电路图缩小到晶圆上。
光刻机用的就是现代摄影技术，难怪另两家是：日本的尼康、佳能。
在光刻机领域，有三家国际大牌：荷兰ASML（艾斯摩尔），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高端光刻机市场，荷兰ASML是无可争议的世界霸主，把第二名都甩得很远，因为技术难度太高、需要的投资太大，尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发。
光刻机的原理虽然简单，但对精度的要求极其地高。
7纳米什么概念？1颗原子的大小是0.1纳米，7纳米就是70个原子。所以EUV光刻过程是在真空环境下进行的，因为空气分子也会干扰EUV光线。而且机械的动作精度度以皮米计（万亿分之一米）。
光刻机上反射镜是核心部件，反射镜的精度以皮米计（万亿分之一米）。ASML总裁曾说过，如果反射镜面积有德国那么大（大概是山东、河南两省面积之和），最高的突起不能超过1厘米。
ASML虽然是荷兰公司，但离不开德国镜头、美国光源，以及各国大客户的支援。
荷兰ASML虽然垄断了高端光刻机，但也不是完全技术独立，它的透镜来自德国蔡司，光源来自美国Cymer。光刻机由于技术难度巨大，资金上的投入也巨大，ASML为了分担研发风险，把上下游都拉进来做利益捆绑，让英特尔、三星、台积电做自己的股东，所以ASML实际上是多国投资的项目。
今日话题：你看好中国自主研发的光刻机吗？
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